陽離子 SiX+(X=F,Cl,S,P,Br)分子光譜和分子特性的理論研究

摘要： 應用密度泛函B3LYP方法合并Dunning等人的相關一致自恰基組d-aug-cc-pVxZ(x=D,T,Q,5,6),研究了陽離子SiX+(X=F,Cl,S,P,Br)的基態(tài)光譜常數和分子特性.首先對所研究分子進行單點能掃描,并將結果擬合到SPF展式,然后從SPF展式抽取光譜常數.結果表明,隨著基組的不斷增大,各種光譜常數很好的自洽收斂.最后,我們將結果外推到CBS極限,理論計算結果和已報到的實驗結果以及其它理論值都非常吻合.其中SiS+,SiP+,SiBr+分子的部分光譜常數的理論值為首次報道. 作 者： 陳恒杰    程新路    蘇欣紡    李清煥    CHEN Heng-jie    CHENG Xin-lu    SU Xing-fang    LI Qing-huan   作者單位： 四川大學原子與分子物理研究所,成都,610065  期 刊： 四川大學學報（自然科學版）  ISTICPKU   Journal： JOURNAL OF SICHUAN UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE EDITION)  年，卷(期)： 2007, 44(2)  分類號： X793  關鍵詞： B3LYP    陽離子    光譜常數    分子特性   

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