- 相關(guān)推薦
以多孔氧化鋁為模板鈷納米線陣列的制備
以多孔氧化鋁為模板,采用交流電沉積的方法制備了鈷納米線陣列膜.采用掃描電子顯微鏡(SEM)對電沉積鈷納米線前后的多孔氧化鋁模板的形貌進(jìn)行表征,通過透射電子顯微鏡(TElM)觀察鈷納米線的表面形貌.結(jié)果表明:金屬鈷沉積到多孑L氧化鋁模板的納米孑L中,鈷納米線的平均直徑約為50n/n,與氧化鋁模板的孔徑相一致.
作 者： 梁淑敏 LIANG Shu-min 作者單位： 黑龍江省公安警官職業(yè)學(xué)院,公安科技系,黑龍江,哈爾濱,150025 刊 名： 化學(xué)工程師 ISTIC 英文刊名： CHEMICAL ENGINEER 年，卷(期)： 2008 22(9) 分類號： O646 關(guān)鍵詞： 鈷納米線陣列 多孔氧化鋁模板 交流電沉積 納米材料【以多孔氧化鋁為鈷納米線陣列的制備】相關(guān)文章：
介孔銅鈷復(fù)合催化劑的制備與表征04-27
親水性聚合物多孔載體的制備及其性能研究04-26
銅納米線的制備及其光限幅特性研究04-26
ZnO納米線陣列的定向生長、光致發(fā)光及場發(fā)射性能04-26
用脈沖電化學(xué)法在低HF濃度下制備多孔硅的研究04-27
水熱法大面積制備TiO2納米棒陣列薄膜04-27
二氧化鍺納米線的制備與喇曼光譜04-27
磁盤陣列·什么是磁盤陣列04-26